长鑫科技加码241亿研发与108亿测试基地,强化DRAM垂直整合
摘要
长鑫科技9月28日公告,拟使用超募资金投建技术研发项目(总投资241亿元,周期30个月)及存储器晶圆后道测试基地二期项目(总投资108亿元,周期37个月),以保障测试产能、降低DRAM测试成本,完善IDM模式。
9月28日晚间,长鑫科技发布公告,披露了使用部分超募资金投资建设新项目的计划。根据公告,公司将投入超募资金130亿元用于新建技术研发项目,同时通过增资和借款方式向全资子公司长鑫存储产品(合肥)有限公司提供50亿元超募资金,用于投资新建存储器晶圆后道测试基地二期项目。
具体来看,技术研发项目总投资金额为241亿元,建设周期30个月,主要聚焦于技术研发。而存储器晶圆后道测试基地二期项目总投资108亿元,建设周期37个月,计划建设一座测试工厂,为DRAM存储芯片提供测试以及模组组装服务。
长鑫科技在公告中解释了此次投资的背景:测试是DRAM生产中不可或缺的关键环节,但因其测试的专用设备特性,随着公司产能不断提升、产品种类增多,可能面临外部封测厂测试产能不足和新增投资配套不足的问题。为了保障测试产能不成为公司产能制约瓶颈并保障供应链安全,公司急需增加自建测试产能的投入。
公司进一步指出,通过自建存储器晶圆后道测试和模组项目,能够更灵活协调测试产能利用,降低公司DRAM芯片测试成本,提升公司运营效率和测试技术,有利于公司进一步完善IDM模式、增强公司的整体竞争力。此次投资也反映出长鑫科技在DRAM领域持续深化垂直整合的战略意图。
本文由新大陆基于公开信息编辑整理
信息来源:IT之家 IT之家原文 ↗