10月5日，中国台湾地区半导体设备制造商华洋精机宣布与光学巨头蔡司（ZEISS）达成合作，共同推出一款名为COSMA-M的高精度测量设备。该设备主要针对光罩（掩膜）、先进封装及晶圆制造等环节的测量需求，旨在满足先进制程对精度的严苛要求。

据官方信息，COSMA-M可提供纳米级测量精度，稳定度达到3σ＜3nm。这一指标意味着设备在多次测量中能够保持极高的重复性，对于先进制程中关键尺寸的管控具有重要意义。此外，结合配套模块，COSMA-M能够实现全自动化测量，提升产线效率。

在应用层面，COSMA-M覆盖DUV掩膜、先进封装、TGV（玻璃通孔）以及CPO（共封装光学）等多个领域。目前，该设备已获得部分潜在客户的送样验证测试，表明其商业化进程正在推进。

此次华洋精机与蔡司的联手，结合了前者在半导体设备制造的经验与后者在光学技术上的积累，有望为半导体测量市场带来新的选择。随着先进制程不断演进，高精度测量设备的需求将持续增长，COSMA-M的市场表现值得关注。